聚酰亞胺(PI)是一種具有優(yōu)良的物理機械特性、電氣性能及化學穩(wěn)定性的有機高分子材料，已廣泛應用到各種領域．其中，薄膜產(chǎn)品用量**，1994年，美國Dupont公司推出了Kapton 100 CR耐電暈PI薄膜，其有機一無機復合結構改變了載流子受陷及輸運過程，使耐電暈性能大幅度提高，所形成的相間復合結構對電荷注人過程、導電和擊穿及老化特性有很大影響。
以均苯四甲酸二酐(PMDA)和4，4 一二胺基二苯醚(ODA)為原料，以N，N 一二甲基乙酰胺(DMAc)為溶劑通過原位聚合法合成高分子量聚酰胺酸膠液；反應前將一定量的硅／鋁氧化物納米分散液溶解到DMAc中，通過相同方法制得無機納米氧化物摻雜聚酰胺酸膠液。室溫下用自制的鋪膜機將摻雜納米氧化物的聚酰胺酸膠液涂成一定厚度于光滑潔凈的玻璃板上，將玻璃板放入烘箱中于80℃下加熱10 min．待膠層表面出現(xiàn)均勻麻點后，取出玻璃板放置在鋪膜機上，將純聚酰胺酸膠液涂于**層膠上，完成后放到80℃的烘箱內(nèi)加熱20 min．觀察膠層表面再次出現(xiàn)麻點時取出玻璃板，將摻雜有納米氧化物的聚酰胺酸膠液作為第三層，按照上述過程再次鋪于玻璃板上．將鋪好的玻璃板置于烘箱中，按設定程序進行升溫直至達到330℃時關閉烘箱電源．待烘箱溫度冷卻至室溫后取出玻璃板進行脫膜處理，即可制得三層復合PI薄膜．所得薄膜厚度均為25m，薄膜內(nèi)外兩層為摻雜PI、中間層為純PI。
為較直觀體現(xiàn)摻雜層厚度與中間層厚度關系，將中間層比例換算為一致，則制得摻雜層與中間層厚度比分別為13：50：13、17：50：17、21：50：21、25：50：25、29：50：29的5種復合薄膜。
制得的三層復合無機納米摻雜PI薄膜的摻雜層中納米粒子分散均勻．電導電流測試結果顯示，同一電場強度下電導電流隨著摻雜層相對厚度的增加而增大，這與復合介質(zhì)極化理論中剩余電流的變化規(guī)律相符．復合薄膜的電老化閾值隨著摻雜層厚度比例的增大向低場強方向移動，即形成空間電荷限制電流所需的場強減小。